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Ausschreibung: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen - DE-München
Dampf- oder Sandstrahlmaschinen
Dokument Nr...: 314673-2018 (ID: 2018072009095773117)
Veröffentlicht: 20.07.2018
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  DE-München: Dampf- oder Sandstrahlmaschinen
   2018/S 138/2018 314673
   Auftragsbekanntmachung
   Lieferauftrag
   Legal Basis:
   Richtlinie 2014/24/EU
   Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
   I.1)Name und Adressen
   Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
   über Vergabeportal deutsche eVergabe
   Hansastr. 27c
   München
   80686
   Deutschland
   E-Mail: [1]fraunhofer@deutsche-evergabe.de
   NUTS-Code: DE212
   Internet-Adresse(n):
   Hauptadresse: [2]http://www.fraunhofer.de
   Adresse des Beschafferprofils: [3]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung
   I.3)Kommunikation
   Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und
   vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter:
   [4]http://www.deutsche-evergabe.de
   Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
   Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via:
   [5]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
   Andere: Forschungsgesellschaft e. V.
   I.5)Haupttätigkeit(en)
   Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung
   Abschnitt II: Gegenstand
   II.1)Umfang der Beschaffung
   II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:
   Abscheideanlage für optische Schichtstapel
   Referenznummer der Bekanntmachung: E_048_252408 cl-golame FMD
   II.1.2)CPV-Code Hauptteil
   42924200
   II.1.3)Art des Auftrags
   Lieferauftrag
   II.1.4)Kurze Beschreibung:
   Für die Herstellung von Multilayerschichtsystemen für den VIS und NIR-
   Bereich wird ein Abscheidesystem für die Abscheidung von dielektrischen
   Schichte mit einer hohen Beschichtungsrate und einer herausragenden
   Homogenität auf Wafern mit d=200 mm benötigt. Diese Systeme sollen als
   hochreflektierende Spiegel auf MOEMS-Bauelementen integriert werden.
   1) Technische Anforderungen:
    Verdampfungskammer mit Fronttür und Sichtfenster,
    Substrataufnahme (Kalotte) für mindestens 8 Substrate (Wafer mit
   d=200 mm),
    die manuelle Beladung soll ergonomisch und möglichst einfach
   gestaltet sein, um auch filigrane Wafer sicher handeln zu können. (Kein
   Über-Kopf-Handling, Realisierung beispielsweise mit herausfahrbarer
   Kalotte oder segmentierter Kalotte)
    Mind. 2 Elektronenstrahlkanonen (1x für Metalle, 1x für Oxide),
    Mind. 10 Tiegel, um verschiedene Verdampfungsmaterialien nutzen zu
   können,
    Automatik-/Rezept-gesteuerte InSitu-Beschichtung von Schichtstapeln
   (z. B. Oxid1-Oxid2-Oxid1).
   II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
   II.1.6)Angaben zu den Losen
   Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
   II.2)Beschreibung
   II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
   II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
   II.2.3)Erfüllungsort
   NUTS-Code: DED2
   Hauptort der Ausführung:
   01109 Dresden
   II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:
   Zu 1.:
    Ionenstrahlquelle für Ionenstrahlassistiertes Verdampfen,
    Thermische Verdampfungsquelle,
    Shutter für alle Verdampfungsquellen,
    Verteilungsblende(n) zur Optimierung der Schichtdickenhomogenität,
    Schichtdickenmessung mittels Schwingquarz,
    Optisches Monitoring System (Breitband) im Wellenlängenbereich 300 
   1 100 nm, 5 nm Auflösung zur InSitu-Monitorierung von Schichtdicken und
   InSitu-Rezeptanpassung während der Beschichtung.
   2) Optionale Anforderungen
    Automatisches Handlingssystem (Kassette-zu-Kassette), geeignet für 8
   Standard SEMI Kassetten Typ DMS 780-550000005
   Hier ist insbesondere vom Anbieter zu prüfen, ob das Handlingssystem
   auch für filigrane Wafer mit Gruben/Löchern und für den Einsatz von
   Schattenmasken geeignet ist. Manuelles Beladen der Anlage sollte
   trotzdem möglich sein.
    Option funkgesteuerte Multi-Shutter-Kalotte für die Teil-Beschichtung
   von Multi-Layer-Stacks in einem Run.
   3) Technologische Anforderungen
    Verdampfen von Al mit hoher und niedriger Rate,
    Verdampfen von SiO2, TiO2, Ta2O5 und Schichtstapeln basierend auf
   diesen Materialien,
    Gute Homogenität (<3 %) und Reproduzierbarkeit Wafer-zu-Wafer und
   Los-zu-Los (<1 %),
    Die Anlage soll prinzipiell in der Lage sein, auch weitere Metalle,
   Oxide (z. B. Nb2O5) und Flouride verdampfen zu können.
   II.2.5)Zuschlagskriterien
   Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium; alle Kriterien sind
   nur in den Beschaffungsunterlagen aufgeführt
   II.2.6)Geschätzter Wert
   II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
   dynamischen Beschaffungssystems
   Laufzeit in Monaten: 6
   Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
   II.2.9)Angabe zur Beschränkung der Zahl der Bewerber, die zur
   Angebotsabgabe bzw. Teilnahme aufgefordert werden
   Geplante Mindestzahl: 3
   Höchstzahl: 5
   Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Zahl von Bewerbern:
   Gemäß Eignungskriterien, Referenzen, Anzahl der Geräte im Feld.
   II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
   Varianten/Alternativangebote sind zulässig: ja
   II.2.11)Angaben zu Optionen
   Optionen: ja
   Beschreibung der Optionen:
   Optional soll Zubehör angeboten werden.
   II.2.12)Angaben zu elektronischen Katalogen
   II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
   Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
   das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
   II.2.14)Zusätzliche Angaben
   Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
   Angaben
   III.1)Teilnahmebedingungen
   III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
   hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
   III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
   Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
   (1) Firmenprofil und Angabe von Mitarbeiterzahlen;
   (2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre;
   (3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (s.
   Anlage);
   (4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch
   den Auftraggeber angefordert).
   III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
   Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:
   (1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Anlagen,
   nicht älter als 3 Jahre. Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen
   Ihre Ansprechpartner nicht benennen dürfen, so kategorisieren Sie bitte
   Ihren Auftraggeber (Forschung, Industrie, andere öffentliche
   Auftraggeber;
   (2) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die
   Halbleiterindustrie in Europa;
   (3) Bekanntgabe der Anzahl von vergleichbar gefertigten Anlagen für die
   Halbleiterindustrie weltweit.
   III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
   III.2)Bedingungen für den Auftrag
   III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:
   Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre
   Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten
   Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im
   Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des
   Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
   III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal
   Abschnitt IV: Verfahren
   IV.1)Beschreibung
   IV.1.1)Verfahrensart
   Verhandlungsverfahren
   IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
   Beschaffungssystem
   IV.1.4)Angaben zur Verringerung der Zahl der Wirtschaftsteilnehmer oder
   Lösungen im Laufe der Verhandlung bzw. des Dialogs
   Abwicklung des Verfahrens in aufeinander folgenden Phasen zwecks
   schrittweiser Verringerung der Zahl der zu erörternden Lösungen bzw. zu
   verhandelnden Angebote
   IV.1.5)Angaben zur Verhandlung
   IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
   IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
   Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
   IV.2)Verwaltungsangaben
   IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
   IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
   Tag: 17/08/2018
   Ortszeit: 23:59
   IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur
   Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
   IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge
   eingereicht werden können:
   Deutsch, Englisch
   IV.2.6)Bindefrist des Angebots
   IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote
   Abschnitt VI: Weitere Angaben
   VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
   Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
   VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
   VI.3)Zusätzliche Angaben:
    Anforderung Unterlagen  erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können
   ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter
   [6]www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. $
    Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen
   über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB)
    Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und
   ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte
   Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf
   Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
   VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
   VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
   Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
   Villemombler Straße 76
   Bonn
   53123
   Deutschland
   VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
   Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
   Bonn
   Deutschland
   VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
   Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:
   Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage
   nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht
   abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein
   Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist,
   bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf
   Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die
   Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der
   Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf
   elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf
   10 Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der
   Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des
   Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die
   Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die
   geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis
   gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1
   GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der
   Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in
   der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur
   Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3
   Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den
   Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der
   Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber
   gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
   VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
   erteilt
   Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
   über Vergabeportal eVergabe
   Hansastraße 27c
   München
   80686
   Deutschland
   E-Mail: [7]einkauf@zv.fraunhofer.de
   Internet-Adresse: [8]http://www.fraunhofer.de
   VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
   18/07/2018
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   3. http://www.deutsche-evergabe.de/
   4. http://www.deutsche-evergabe.de/
   5. http://www.deutsche-evergabe.de/
   6. http://www.deutsche-evergabe.de/
   7. mailto:einkauf@zv.fraunhofer.de?subject=TED
   8. http://www.fraunhofer.de/
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