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Ausschreibung: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - DE-München
Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Dokument Nr...: 109281-2017 (ID: 2017032409030322610)
Veröffentlicht: 24.03.2017
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  DE-München: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
   2017/S 59/2017 109281
   Vorinformation
   Diese Bekanntmachung dient der Verkürzung der Frist für den Eingang der
   Angebote
   Lieferauftrag
   Richtlinie 2014/24/EU
   Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
   I.1)Name und Adressen
   Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
   über Vergabeportal deutsche eVergabe
   Hansastr. 27c
   München
   80686
   Deutschland
   E-Mail: [1]fraunhofer@deutsche-evergabe.de
   NUTS-Code: DE212
   Internet-Adresse(n):
   Hauptadresse: [2]http://www.fraunhofer.de
   Adresse des Beschafferprofils: [3]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.2)Gemeinsame Beschaffung
   I.3)Kommunikation
   Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und
   vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter:
   [4]http://www.deutsche-evergabe.de
   Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
   Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via:
   [5]http://www.deutsche-evergabe.de
   I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
   Andere: Forschungsgesellschaft e. V.
   I.5)Haupttätigkeit(en)
   Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung
   Abschnitt II: Gegenstand
   II.1)Umfang der Beschaffung
   II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:
   ECD Tool.
   Referenznummer der Bekanntmachung: E_146_004266 deyda-ort FMD
   II.1.2)CPV-Code Hauptteil
   42990000
   II.1.3)Art des Auftrags
   Lieferauftrag
   II.1.4)Kurze Beschreibung:
   Geplant wird die Anschaffung einer Anlage für die schnelle galvanische
   Abscheidung verschiedener Metalle für high-aspect-ratio-Bumps und
   Pillars sowie für hochdichte RDLs (Redistribution Layer) mit
   line/space-Distanzen von < 1 µm im BEoL (Back End of Line)-Modul auf
   300 mm-Wafern. Die Anlage soll über mindestens vier ECD-Kammern mit 200
   mm-Kompatibilität verfügen. Darüber hinaus müssen alle Prozesse
   enthalten sein, die der Vorbereitung der elektrochemischen Abscheidung
   (z. B. Reinigung, Aktivierung) sowie der Nachbehandlung (Entfernung
   unerwünschter Metallabscheidungen auf der Waferrückseite) beschichteter
   Wafer dienen. Die vorgesehene Applikation erfordert die automatisierte
   Prozessierung von 300 mm und 200 mm-Standardwafern und Glaswafern sowie
   Waferstapeln (abgedünnte Wafer aufgeklebt auf einem Carrierwafer) mit
   einer Dicke zwischen 300 und 1 500 µm. Die Ein- und Ausgabestationen
   müssen für die Aufnahme standardisierter Waferkassetten vorbereitet
   sein. Weiter II.2.4).
   II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
   II.1.6)Angaben zu den Losen
   Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
   II.2)Beschreibung
   II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
   II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
   II.2.3)Erfüllungsort
   NUTS-Code: DED2
   Hauptort der Ausführung:
   01468 Moritzburg.
   II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:
   Ergänzend zu II.1.4)
   Das System soll zudem die Möglichkeit einer Prozesskontrolle über eine
   Analyse der Elektrolyten bieten. Es ist erforderlich, dass wesentliche
   Bestandteile der Metallbäder automatisch und kontinuierlich analysiert
   und bei Bedarf diese automatisch dem Bad zugesetzt werden.
   Die Ausrüstung wird in einem Reinraum (Klasse 1 000) eingesetzt werden
   und muss alle dazu notwendigen Voraussetzungen erfüllen. Betrieben wird
   die Anlage unter dem besonderen Aspekt von Forschungs- und
   Entwicklungsleistungen für Industriepartner und muss in diesem
   Zusammenhang eine hohe Flexibilität sowie eine ausreichende, möglichst
   unter Produktionsbedingungen ausgewiesene Stabilität und Verfügbarkeit
   aufweisen. Wesentliche Daten (Los, Prozess, Fehler, etc.) sind auf
   geeignete Weise zu speichern und für weitere Auswertungen zugänglich zu
   machen. Die installierte Anzahl diesbezüglicher Anlagen im Feld muss
   einen schnellen Transfer von Prozessen und Rezepten zu den
   Halbleiterfirmen zulassen.
   II.2.5)Zuschlagskriterien
   II.2.6)Geschätzter Wert
   II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
   dynamischen Beschaffungssystems
   Laufzeit in Monaten: 7
   II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
   II.2.11)Angaben zu Optionen
   II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
   Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
   das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
   II.2.14)Zusätzliche Angaben
   II.3)Voraussichtlicher Tag der Veröffentlichung der
   Auftragsbekanntmachung:
   18/04/2017
   Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
   Angaben
   III.1)Teilnahmebedingungen
   III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
   hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
   III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
   III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
   III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
   III.2)Bedingungen für den Auftrag
   III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:
   III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal
   Abschnitt IV: Verfahren
   IV.1)Beschreibung
   IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
   Beschaffungssystem
   IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
   IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
   Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
   IV.2)Verwaltungsangaben
   IV.2.5)Voraussichtlicher Beginn der Vergabeverfahren:
   Abschnitt VI: Weitere Angaben
   VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
   VI.3)Zusätzliche Angaben:
   VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
   VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
   Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
   Villemomblerstraße 76
   Bonn
   53123
   Deutschland
   VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
   VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
   Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:
   Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt
   ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1
   genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen
   Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten
   Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir
   weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §160 Gesetz gegen
   Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht
   berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. §134 GWB
   informiert.
   VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
   erteilt
   VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
   21/03/2017
References
   1. mailto:fraunhofer@deutsche-evergabe.de?subject=TED
   2. http://www.fraunhofer.de/
   3. http://www.deutsche-evergabe.de/
   4. http://www.deutsche-evergabe.de/
   5. http://www.deutsche-evergabe.de/
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